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【Wolfa新製品】23種類の新しい半導体前駆体とハイエンド医薬品中間体を追加（2025年12月）

数ブラウズ：70 著者：サイトエディタ公開された： 2025-12-16 起源：パワード

半導体プロセスノードが3nm以上のより精密なプロセスに向けて進化し、新薬開発でますます精密な合成技術が求められる中、科学研究部門と産業部門は、上流の化学材料の純度と一貫性に対する前例のない課題に直面しています。

この需要に応えて、Wolfa は今月、高純度化学品ポートフォリオの拡大を正式に発表しました。このアップデートでは、ロジックおよびメモリチップ製造用の ALD/CVD 前駆体や、複雑な有機合成用の高反応性金属試薬をカバーする以下の主要な化学物質に焦点を当てています。

以下は、新製品とそのアプリケーションカテゴリのリストです。

High-k 材料: Hf および Zr プリカーサー

当社は現在、高品質の HfO2 薄膜の堆積に適した高純度のハフニウムベースの前駆体を提供しています。また、優れたステップカバレージを示す 2 つのジルコニウムベースのプリカーサーも発売しました。

ALD プロセスでは、電子グレードの純度を確保するために、前述の前駆体中の Zr/Hf 企業間不純物を厳密に分離しました。以下は詳細な製品リストです。

製品名	CAS	化学式
トリス(ジメチルアミノ)シクロペンタジエニルハフニウム	941596-80-1	CpHf
酸化ハフニウム	12055-23-1	HfO2
四塩化ジルコニウム	1026-11-60	ZrCl4
トリス(ジメチルアミノ)シクロペンタジエニルジルコニウム	33271-88-4	CpZr

SiO2、SiN、SiOC などの絶縁層およびバリア層の堆積に関して、当社はさまざまな温度ウィンドウのプロセス要件を満たすためにシリコン前駆体の選択を拡大しました。

高温 CVD プロセスに適応した古典的なシリコンソースを追加しました。

製品名	CAS	化学式
ヘキサクロロジシラン	13465-77-5	HCDS

また、反応性の高いアミノシランは低温での堆積を実現し、塩素汚染を回避できます。

ナノスケール相互接続における抵抗の問題に対処するために、当社は拡散バリア層やコンタクト電極の製造に広く使用されているさまざまな高融点金属前駆体を導入しました。

製品名	CAS	化学式
トリクロロ(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタン(IV)	12129-06-5	C10H15Cl3Ti
トリメトキシ(ペンタメチルシクロペンタジエニル)チタン(IV)	123927-75-3	スターティ

製品名	CAS	化学式
ビス(tert-ブチルイミノ) ビス(ジメチルアミノ) タングステン	406462-43-9	BTBMW
ビス(イソプロピルシクロペンタジエニル)二水素化タングステン	64561-25-7	W(i-PrCp)2H2

製品名	CAS	化学式
塩化モリブデンV	10241-05-1	MoCI5

Wolfa の高活性試薬は、医薬品や精密有機合成での使用に適しています。これらはすべて、開封後すぐに使用できるように、無水および無酸素環境でパッケージ化されています。

サプライチェーンを改善するために、以下の製品も追加しました。

上記のすべての製品に対して、Wolfa は業界標準のパッケージングソリューションを提供します。

厳格な不純物管理: 詳細な分析レポートが提供されます。
プロフェッショナルなパッケージング: 当社は、蒸着装置に直接適合する、VCR や Swagelok などのバルブを備えたさまざまなサイズ (150ml、4L など) のステンレス鋼製発泡ボトルおよびアンプルを提供しています。
準拠した輸送: 危険物の輸送に関する国連規則を厳密に遵守します。

特定の製品に SDS または COA が必要ですか?これらを入手するには、。当社に直接ご連絡ください当社の技術チームが 24 時間以内にリクエストに対応いたします。